惡臭氣體UV高效光解淨化技術/光氧廢氣處理企業哪家好?天意

特製UV紫外線燈：利用特製的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，裂解工業廢（fèi）氣如（rú）：氨、三甲胺、liu化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲er硫（liú）、er硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二（èr）甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡（è）臭化（huà）合物（wù）分子（zǐ）鏈（liàn），在高能紫外線光束照（zhào）射（shè）下，降解轉變成低分子化合物，如（rú）CO2、H2O等。利用高能高臭氧UV紫（zǐ）外線光束分解（jiě）空（kōng）氣中的氧分子產生遊離氧，即活性氧（yǎng），因遊離（lí）氧所攜正負電子不平衡所以（yǐ）需與氧分子（zǐ）結合，進而產生臭氧。 UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，眾所周知臭氧對有（yǒu）機物具有極強的氧化作用，對工業廢氣及（jí）其（qí）它刺激性異味有立竿見影的清除效果。工業廢氣利（lì）用排風設備輸入到本淨化設備後，淨化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對工業廢氣進行（háng）協同分解（jiě）氧化反應，使工業廢氣物質其降解轉（zhuǎn）化成低分子化（huà）合（hé）物、水和二氧化碳，再通過排（pái）風管道排出室外。利用高能-C光束裂解工業廢氣中細菌的分（fèn）子鍵（jiàn），破壞細菌的核酸（suān）（DNA），再通過臭（chòu）氧進行氧化反應，徹底（dǐ）達到淨化（huà）及殺（shā）滅細菌的（de）目的．從淨化空氣效率考慮，我們選擇了-C波（bō）段紫（zǐ）外線和臭氧發結合電暈電流較高化裝（zhuāng）置采用（yòng）脈（mò）衝電（diàn）暈放吸附技術相結合的原理對有害氣體進（jìn）行消除，其中-C波段紫外線主要用來去除liu化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、尿烷、樹脂等氣（qì）體的分解和裂變，使有機物變為無機化合物。

特製（zhì）催化劑：根據不同的廢氣成分配置27種以上相對應的（de）惰性催化劑，催化劑采用蜂窩狀金屬網孔作為載體，全方位與光源接觸，惰性催化劑在338納米光源以下（xià）發生催（cuī）化反應，放（fàng）大10-30倍（bèi）光源效果（guǒ），使其與廢氣進行（háng）充分反應，縮（suō）短廢氣與光源接觸（chù）時間，從而（ér）提高廢氣淨化效率（lǜ），催（cuī）化劑還具有類似於（yú）植物光合作用，對廢氣進（jìn）行淨化效果。

所謂等離（lí）子體（tǐ）是繼固體、氣體、液體三態後，列為物質的第四態，由正（zhèng）離子（zǐ）、負離（lí）子、電子和中性離子組成，因（yīn）體係中正負電荷總數相等，故稱為“等離子體”。

等離子體（tǐ）按粒子溫度可分為平衡態（電子（zǐ）溫度=離子溫度）與非平衡態（電子（zǐ）溫（wēn）度>>離子溫度（dù））兩類。

非（fēi）平衡態等離子體電子溫度可（kě）上萬度，離子及中性離（lí）子可低至室溫，即體係（xì）表觀溫度仍很（hěn）低，故稱（chēng）“低（dī）溫等離子體”，一般由氣體放電產生。

低溫（wēn）等離子體技術是近年發展（zhǎn）起來的廢氣處理新技術，低（dī）溫等離子體處理廢氣（qì）的原理為： 

當外加（jiā）電壓達（dá）到氣體的放電電壓時，氣體（tǐ）被擊（jī）穿，產生包括電子、各種離子、原子和自（zì）由基在（zài）內（nèi）的混合體（tǐ）。低溫等離子體降解汙染物是利用（yòng）這些高能電子、自（zì）由基等活性（xìng）粒子和（hé）廢氣中的汙染物作用，使（shǐ）汙染物分子在（zài）極短的時間內發生分解，以（yǐ）達到降解汙染（rǎn）物的目的。

低溫等離子體技（jì）術處理汙染物的原理為：在外加電場（chǎng）的（de）作用下，介質放電產（chǎn）生的大量高能電子轟擊汙（wū）染物分子，使其電離、解離和激（jī）發，然後便引發了一係列複雜的物（wù）理、化學反應，使複雜大分子汙染物轉變為簡（jiǎn）單（dān）小分子安全物質，或（huò）使有毒有害物質轉變為無毒無害或低毒（dú）低害物質，從而使汙染物得以降解去除。因（yīn）其電離後產生的電子平（píng）均能量在1eV～10eV，適當控製反應條件可以（yǐ）實（shí）現一般情況（kuàng）下難以實現或速度很慢的化學反應（yīng）變得十（shí）分快速。其能量傳遞過程為：

電場+電子      高能電（diàn）子（zǐ）

                            受激電子

高能電子+分子（或原子）     受激分子   活性基因

                            自（zì）由基

活性基因（yīn）+分子（或原子）      生成物+熱

活性基因+活性基因      生成物+熱（rè）

在本項目治理貴公司印刷廢（fèi）氣，在介質阻擋放電（DBD）的低溫等離子體發生器中（zhōng），這些廢氣因子的苯（běn）環（huán）被高能電（diàn）子轟擊後首先（xiān）被打開成碎片。

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