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【詳細說明(míng)】
磁控濺射真空鍍膜機室立式單(dān)開(kāi)門非(fēi)平衡(héng)磁控反應濺射鍍膜機,此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度(dù)、純度(dù)、硬度(dù)等(děng)方麵均勻提(tí)高。廣泛應用於手表,眼鏡,通訊,電子,機械,裝飾和交通航空等領域的高檔裝飾和功(gōng)能性蒲膜。